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江蘇赫菲斯半導體有限公司化學氣相沉積設備研發(fā)測試項目 環(huán)評公示 |
| 發(fā)布者：無錫市科泓環(huán)境工程技術有限責任公司 發(fā)布時間：4/9/2025 10:10:53 AM 點擊次數(shù)：947 關閉 |
項目名稱:化學氣相沉積設備研發(fā)測試項目 建設單位:江蘇赫菲斯半導體有限公司 地址:無錫市新吳區(qū)長江南路52-8號新港集成電路裝備零部件及材料產業(yè)園3層 環(huán)境影響評價機構:無錫市科泓環(huán)境工程技術有限責任公司 聯(lián)系電話:0510-68566079 郵箱:1xhb668@163.com 公眾提出意見的主要方式:電話、郵件 公示日期為2025年4月9日-2025年4月19日
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