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江蘇赫菲斯半導(dǎo)體有限公司化學(xué)氣相沉積設(shè)備研發(fā)測(cè)試項(xiàng)目 環(huán)評(píng)公示 |
| 發(fā)布者：無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司 發(fā)布時(shí)間：4/9/2025 10:10:53 AM 點(diǎn)擊次數(shù)：958 關(guān)閉 |
項(xiàng)目名稱:化學(xué)氣相沉積設(shè)備研發(fā)測(cè)試項(xiàng)目 建設(shè)單位:江蘇赫菲斯半導(dǎo)體有限公司 地址:無錫市新吳區(qū)長(zhǎng)江南路52-8號(hào)新港集成電路裝備零部件及材料產(chǎn)業(yè)園3層 環(huán)境影響評(píng)價(jià)機(jī)構(gòu):無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司 聯(lián)系電話:0510-68566079 郵箱:1xhb668@163.com 公眾提出意見的主要方式:電話、郵件 公示日期為2025年4月9日-2025年4月19日
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